PECVD等離子增強化學氣相沉積系統(tǒng)介紹

該款PECVD系統(tǒng), 加熱元件為含鉬電阻絲（1200℃以下使用）

PECVD系統(tǒng)主要由供氣系統(tǒng)、加熱系統(tǒng)、射頻電源、真空系統(tǒng)等組成；

1）加熱系統(tǒng)為單溫區(qū)結構，溫區(qū)長度440mm

2）真空系統(tǒng)采用旋片泵，極限真空度5Pa，用戶也可選擇高真空（分子泵組）；

3）射頻電源借助于輝光放電等方法產(chǎn)生等離子體，輝光放電等離子體中；

4）供氣系統(tǒng)為質量流量計混氣路數(shù)4路相混合（主要根據(jù)客戶工藝要求定制）；

PECVD是借助于光放電等方法產(chǎn)生等離子體，光放電等離子體中：電子密度高109-1012cm3電子氣體溫度比普通氣體分子溫度高出10-100倍，使含有薄膜組成的氣態(tài)物

質發(fā)生化學反應，從而實現(xiàn)薄膜材料生長的一種新的制備技術。通過反應氣態(tài)放電，有效地利用了非平衡等離子體的反應特征，從根本上改變了反應體系的能量供給

方式低溫熱等離子體化學氣相沉積法具有氣相法的所有優(yōu)點，工藝流程簡單。

PECVD等離子增強化學氣相沉積系統(tǒng)功能及特點

1、爐膛采用日本技術真空吸附成型的高純氧化鋁多晶纖維制成，保溫效果好，耐用節(jié)能，硬度高、反射率高、溫場均衡等特點。

2、加熱元件采用含鉬電阻絲，最高發(fā)熱溫度可達1200℃。

3、通過射頻電源實現(xiàn)輝光放電等方法，產(chǎn)生等離子體。

4、數(shù)字質量流量控制系統(tǒng)是由多路質量流量計，流量顯示儀等組成，實現(xiàn)氣體的流量的精密測量和控制；每條氣體管路均配備高壓逆止閥，保證系統(tǒng)的安全性和連續(xù)均勻性。

5、爐管采用高純石英管，高溫下化學穩(wěn)定性強，熱膨脹系數(shù)極小，能承受驟冷驟熱的溫度；

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