CVD化學氣相沉積系統描述

該款CVD系統,加熱元件可為電阻絲（1200℃以下使用）。

CVD管式爐由供氣系統、加熱系統、真空系統等組成；

1）加熱系統可以單溫區(qū)，溫區(qū)長度440mm

2）真空系統可為低真空，極限真空可以達到5Pa（也可選擇分子泵機組）

3）供氣系統為質量流量計混氣，氣路由3路相混合（主要根據客戶工藝要求定制）；

CVD化學氣相沉積系統功能和特點

1、加熱系統爐膛采用高純氧化鋁多晶纖維制成，保溫效果好，耐用節(jié)能，反射率高、溫場均衡，等特點；

2、加熱元件采用含鉬電阻絲，最高發(fā)熱溫度可達1200℃；

3、數字質量流量控制系統是由3路質量流量計，流量顯示儀等組成，實現氣體的流量的精密測量和控制；每條氣體管路均配備高壓逆止閥，保證系統的安全性和連續(xù)均勻性。

4、爐管采用高純石英管高溫下化學穩(wěn)定性強，耐腐蝕，熱膨脹系數極小，能承受急冷急熱的溫度。

5、加熱采用上開啟式，超溫和斷偶保護警報并斷電，漏電保護，操作安全可靠。

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